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3.3 可见光探测器

可见光探测器工作在 380–1100 nm 波段,以硅(Si)为核心材料,是当前技术最成熟、成本最低、应用最广泛的一类光电探测器。CCD 和 CMOS 图像传感器是其中最主要的面阵器件,广泛用于消费相机、工业视觉、遥感成像、医疗内窥等领域。


一、硅的光电特性

硅是可见光探测器的主导材料,其关键特性:

参数
禁带宽度 $E_g$ 1.12 eV(室温)
响应波段 400–1100 nm
峰值响应波长 ~800–900 nm
峰值量子效率(背照式) 可达 90%+

硅在近紫外(<400 nm)响应迅速下降;在近红外(>1000 nm)因禁带限制完全截止。需要更长波段响应时,须换用 InGaAs 或 Ge 等材料。


二、CCD 图像传感器

2.1 工作原理

CCD(Charge-Coupled Device,电荷耦合器件)的工作分四步:

  1. 光电转换:光子在各像元的势阱中产生电子–空穴对,电子被收集存储。
  2. 电荷积累:曝光时间内持续积累光生电荷(积分时间)。
  3. 电荷转移:在时钟信号驱动下,电荷包依次移位传输到读出端。
  4. 电荷-电压转换:输出节点将电荷包转换为电压,经放大后输出。

2.2 主要类型

类型 结构 特点
全帧 CCD(FF-CCD) 整个像元面积均为感光区 填充因子最高(接近 100%),需机械快门
帧转移 CCD(FT-CCD) 分感光区和存储区 无需机械快门,但有效面积减半
行间转移 CCD(IT-CCD) 像元旁有垂直转移寄存器 可电子快门,主流消费级方案

2.3 CCD 核心参数

参数 典型值 影响
像元尺寸 3–20 μm 决定分辨率和灵敏度
满阱容量 $10^4$–$10^6$ e⁻ 决定动态范围上限
读出噪声 2–10 e⁻ 决定弱光探测极限
暗电流 <1 e⁻/pixel/s(制冷后) 长曝光的噪声限制
量子效率 正照式 30–60%,背照式 70–95% 灵敏度

2.4 背照式(BSI)CCD

传统正照式 CCD 光线需穿过多晶硅栅极才能到达感光层,造成蓝光损失。背照式(Back-Side Illuminated, BSI)将衬底减薄后翻转,光线直接照射感光层,蓝绿波段 QE 大幅提升。


三、CMOS 图像传感器

3.1 与 CCD 的核心区别

CMOS(互补金属氧化物半导体)传感器每个像元内嵌独立的放大器和读出电路(有源像元),可并行读出,无需电荷逐级传输:

特性 CCD CMOS
读出方式 串行电荷转移 并行独立读出
读出噪声 2–10 e⁻(优) 1–5 e⁻(近年追平)
功耗 较高 极低
帧率 中等 极高(局部读出)
卷帘快门 不适用 常见(高速运动有果冻效应)
全局快门 标准 需额外设计
成本 较高 低(标准 CMOS 工艺)
集成度 高(可集成 ISP、ADC)

3.2 堆栈式 CMOS

将感光层、模拟电路层、数字处理层分别制造后三维键合,进一步提升像元密度和处理速度,是当前手机和高速相机传感器的主流架构。


四、科学级探测器

对噪声和灵敏度要求极高的科研应用,使用专用科学级 CCD 或 sCMOS:

类型 特点 应用
背照 CCD(冷却) QE>90%,读出噪声<3 e⁻ 天文成像、荧光显微
EM-CCD 片内电子倍增,读出噪声<1 e⁻ 单光子灵敏成像
sCMOS 低噪声(~1 e⁻)+ 高帧率 超分辨显微、高速科学成像
SPAD 阵列 单光子雪崩探测 激光雷达、荧光寿命成像

五、近红外扩展探测器

当应用需要覆盖 900 nm–1700 nm 时,硅已无响应,需使用:

材料 响应范围 特点
InGaAs 900–1700 nm(标准)/ 可扩展至 2500 nm 室温可用,近红外标准器件
Ge 800–1800 nm 成本低,噪声略高
InAs/GaSb II 类超晶格 1–5 μm 新兴红外材料

参考资料

  • Holst & Lomheim, CMOS/CCD Sensors and Camera Systems (2nd Edition), SPIE
  • Janesick, Scientific Charge-Coupled Devices, SPIE Press
  • Sony Semiconductor 技术文档(IMX 系列 CMOS 传感器)

更新时间

2026-03-03